LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


V elektrolýze mědi je potlačovač (suppressor) klíčovým aditivem pro řízení usazování kovu a zajištění rovnoměrného pokovení. Přesné stanovení koncentrace potlačovače Thru-Cup EVF-B umožňuje optimalizovat proces nikoli pouze z hlediska kvality povlaku, ale i z hlediska efektivity a nákladů.

Cíle a přehled studie


Cílem popsané aplikace bylo vyvinout rychlou a spolehlivou metodu pro kvantifikaci potlačovače EVF-B v kyselých měděných koupelích. Metoda kombinuje ředicí titraci (DT) s cyklickou voltametrickou stripovací analýzou (CVS) za hydrodynamických podmínek.

Použitá metodika


Do vzorku elektrolytu (50 mL) se postupně přidá standardní roztok aditiva. Při každém ředění se na prací elektrodě Pt-RDE provede CVS měření mezi potenciály +1,575 V a –0,25 V. Odečítá se plocha špičky proudu Cu u potenciálu kolem +0,2 V a vyhodnocuje se poměr Q/Q(0). Kalibrace se provádí titrací známými objemy standardu.

Použitá instrumentace


  • Pracovní elektroda: Pt-RDE s hřídelí 6.1246.000 a Pt hrotem pro CVS (6.1204.160)
  • Pomocná elektroda: Pt drát (6.0343.000)
  • Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L) (6.0728.020)
  • Mezielektrolyt: KNO3 saturované ve vodě (3:1) (6.1245.010)
  • Rychlost míchání: 2000 rpm
  • Parametry CVS: krok 0,006 V, rychlost 0,1 V/s

Hlavní výsledky a diskuse


Metoda prokázala lineární závislost poměru Q/Q(0) na koncentraci EVF-B v rozsahu do 0,6 mL standardu. Voltampogramy ukázaly dobře definovanou špičku Cu při ~0,2 V. Reprodukovatelnost měření byla v rámci laboratorních požadavků a detekční limit odpovídá běžným provozním koncentracím potlačovače.

Přínosy a praktické využití metody


Díky minimálnímu předpracování vzorku lze metodu snadno zařadit do kvalitativní kontroly elektrolytických koupelí. Rychlé vyhodnocení a absence komplikovaných chemických reakcí usnadňuje denní monitoring složení lázně.

Budoucí trendy a možnosti využití


  • Rozšíření metody na simultánní detekci více aditiv.
  • Miniaturizace elektrod a přenosné CVS přístroje pro on-line kontrolu.
  • Integrace s chemometrickou analýzou pro prediktivní řízení procesu.

Závěr


Metoda ředicí titrace kombinovaná s CVS představuje efektivní nástroj pro stanovení potlačovače Thru-Cup EVF-B v kyselé měděné koupeli. Nabízí rychlost, spolehlivost a jednoduchou instrumentaci vhodnou pro rutinní provozní kontrolu.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
VA Application Note No. V - 133 Title: Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of suppressor «Copper Gleam 2001 Carrier» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic…
Klíčová slova
copper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmshaas, haascvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic
Suppressor «MACuSpec TM PPR 100 Wetter» in acid copper baths (MacDermid)
VA Application Note No. V - 141 Title: Suppressor «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in acid copper baths (MacDermid) Summary: Determination of suppressor «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample:…
Klíčová slova
wetter, wettercopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialmacdermid, macdermidppr, ppracid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath (MacDermid)
VA Application Note No. V - 143 Title: Suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath (MacDermid) Summary: Determination of suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
bath, bathvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodepotential, potentialmacdermid, macdermidacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic, hydrodynamicelectrolyte
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.