Suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath (MacDermid)
Aplikace | | MetrohmInstrumentace
V elektrolytické povrchové úpravě kovů hrají malé organické přísady, tzv. potlačovače (suppressory), klíčovou roli při řízení morphologie a kvality měděných povlaků. Přesné stanovení jejich koncentrace v kyselých měděných lázních je zásadní pro udržení optimálních vlastností povlaku, minimalizaci defektů a dosažení reproducibility ve výrobních procesech.
Cílem Application Note V-143 je představit jednoduchou a citlivou metodu stanovení potlačovače MultiBond™ 100 Part A20 v kyselém měděném lázni. Metoda kombinuje ředění vzorku (DT) s cyklickým voltametrickým strippingem (CVS) za hydrodynamických podmínek na rotačním diskovém elektrochemickém měřicím systému.
Vzorek kyselé měděné lázně byl ředěn 1:10 v základním roztoku VMS (CuSO₄, H₂SO₄, NaCl podle specifikací dodavatele). Měření probíhalo v 50 mL roztoku VMS na rotačním diskovém elektrochemickém systému (RDE) při rychlosti 2000 rpm. Režim CVS: startovací potenciál 1,575 V, první vertex –0,25 V, druhý vertex 1,575 V, krok 6 mV, rychlost skenu 0,1 V/s. Kvantifikace byla založena na poměru náboje Q/Q₀ = 0,7 při sledování strippingového proudu Cu s vrcholem kolem 0,2 V ± 0,2 V.
Cyklická voltamogramová křivka ukázala charakteristický strippingový vrchol Cu při přibližně 0,2 V. Kalibrační křivka Q/Q₀ jako funkce přidaného objemu potlačovače vykázala lineární pokles v rozsahu 0–0,8 mL titrantu, což umožňuje spolehlivé stanovení koncentrace přísady. Metoda poskytuje dobrou reprodukovatelnost a citlivost pro průmyslové koncentrace potlačovače.
Metodu lze rozšířit na další typy přísad v měděných a jiných elektrolytických lázních. Perspektivní je automatizace titrace a integrace s chemometrickými nástroji pro vícekomponentní analýzu. Další krok představuje miniaturizace senzoru a vývoj přenosných detektorů pro on-site kontroly.
CVS v kombinaci s ředěním představuje rychlý, citlivý a spolehlivý přístup k stanovení potlačovače MultiBond™ 100 Part A20 v kyselých měděných lázních. Metoda splňuje požadavky průmyslové kontroly kvality a nabízí možnosti dalšího rozvoje pro komplexní analytické aplikace.
Voltametrie/Coulometrie
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceMetrohm
Souhrn
Význam tématu
V elektrolytické povrchové úpravě kovů hrají malé organické přísady, tzv. potlačovače (suppressory), klíčovou roli při řízení morphologie a kvality měděných povlaků. Přesné stanovení jejich koncentrace v kyselých měděných lázních je zásadní pro udržení optimálních vlastností povlaku, minimalizaci defektů a dosažení reproducibility ve výrobních procesech.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem Application Note V-143 je představit jednoduchou a citlivou metodu stanovení potlačovače MultiBond™ 100 Part A20 v kyselém měděném lázni. Metoda kombinuje ředění vzorku (DT) s cyklickým voltametrickým strippingem (CVS) za hydrodynamických podmínek na rotačním diskovém elektrochemickém měřicím systému.
Použitá instrumentace
- Pracovní elektroda (WE): Pt-RDE, hřídel č. 6.1246.000, Pt tip č. 6.1204.160
- Auxiliární elektroda (AE): Pt č. 6.0343.000
- Referenční elektroda (RE): Ag/AgCl/KCl (3 mol/L) č. 6.0728.020 s intermediálním elektrolytem KNO₃:H₂O (3:1) č. 6.1245.010
Použitá metodika
Vzorek kyselé měděné lázně byl ředěn 1:10 v základním roztoku VMS (CuSO₄, H₂SO₄, NaCl podle specifikací dodavatele). Měření probíhalo v 50 mL roztoku VMS na rotačním diskovém elektrochemickém systému (RDE) při rychlosti 2000 rpm. Režim CVS: startovací potenciál 1,575 V, první vertex –0,25 V, druhý vertex 1,575 V, krok 6 mV, rychlost skenu 0,1 V/s. Kvantifikace byla založena na poměru náboje Q/Q₀ = 0,7 při sledování strippingového proudu Cu s vrcholem kolem 0,2 V ± 0,2 V.
Hlavní výsledky a diskuse
Cyklická voltamogramová křivka ukázala charakteristický strippingový vrchol Cu při přibližně 0,2 V. Kalibrační křivka Q/Q₀ jako funkce přidaného objemu potlačovače vykázala lineární pokles v rozsahu 0–0,8 mL titrantu, což umožňuje spolehlivé stanovení koncentrace přísady. Metoda poskytuje dobrou reprodukovatelnost a citlivost pro průmyslové koncentrace potlačovače.
Přínosy a praktické využití metody
- Rychlé a opakovatelné stanovení potlačovače přímo v provozních elektrolytech.
- Nízká spotřeba vzorku a reagencií díky ředění 1:10.
- Jednoduchá integrace do rutinní QA/QC laboratoře i on-line monitorovacích systémů.
Budoucí trendy a možnosti využití
Metodu lze rozšířit na další typy přísad v měděných a jiných elektrolytických lázních. Perspektivní je automatizace titrace a integrace s chemometrickými nástroji pro vícekomponentní analýzu. Další krok představuje miniaturizace senzoru a vývoj přenosných detektorů pro on-site kontroly.
Závěr
CVS v kombinaci s ředěním představuje rychlý, citlivý a spolehlivý přístup k stanovení potlačovače MultiBond™ 100 Part A20 v kyselých měděných lázních. Metoda splňuje požadavky průmyslové kontroly kvality a nabízí možnosti dalšího rozvoje pro komplexní analytické aplikace.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 133 Title: Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of suppressor «Copper Gleam 2001 Carrier» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic…
Klíčová slova
copper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmshaas, haascvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic
VA Application Note No. V - 141 Title: Suppressor «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in acid copper baths (MacDermid) Summary: Determination of suppressor «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample:…
Klíčová slova
wetter, wettercopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialmacdermid, macdermidppr, ppracid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms