Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
Aplikace | | MetrohmInstrumentace
Analýza a stanovení organických přísad (suppressorů) v mědířských lázních je klíčové pro kontrolu kvality a konzistence pokovovacích procesů. Suppresor Cupracid BL-CT reguluje růst měďnaté vrstvy a jeho přesné určení umožňuje optimalizaci elektrolytických parametrů a předcházení defektům povlaků.
Cílem této poznámky je představit metodu ředicí titrace (DT) s využitím cyklické voltametrické strippingu (CVS) ke kvantitativnímu stanovení suppressoru Cupracid BL-CT v kyselých mědířských lázních.
Stanovení suppressoru proběhlo s dobrou linearitou kalibrační křivky v rozsahu řádu 10⁻¹ mg/l. Cyklické voltametrické křivky ukázaly charakteristický strippingový vrchol Cu při ~0,2 V. S rostoucí koncentrací suppressoru redoxní proud klesal, což odpovídá inhibičnímu účinku přísady. Titrace umožnila spolehlivě kvantifikovat aktivní složku v přítomnosti dalších elektrolytů.
Metoda ředicí titrace v kombinaci s cyklickou voltametrií strippingem nabízí spolehlivou, citlivou a snadno implementovatelnou analýzu suppressoru Cupracid BL-CT v kyselých mědířských lázních. Díky minimální přípravě vzorku a rychlému vyhodnocení je vhodná pro průběžnou kontrolu a optimalizaci povlakovacího procesu.
Voltametrie/Coulometrie
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceMetrohm
Souhrn
Význam tématu
Analýza a stanovení organických přísad (suppressorů) v mědířských lázních je klíčové pro kontrolu kvality a konzistence pokovovacích procesů. Suppresor Cupracid BL-CT reguluje růst měďnaté vrstvy a jeho přesné určení umožňuje optimalizaci elektrolytických parametrů a předcházení defektům povlaků.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem této poznámky je představit metodu ředicí titrace (DT) s využitím cyklické voltametrické strippingu (CVS) ke kvantitativnímu stanovení suppressoru Cupracid BL-CT v kyselých mědířských lázních.
Použitá metodika a instrumentace
- Vzorek: neředěný elektrolyt mědířské lázně
- Příprava vzorku: žádná
- Měřicí roztok: 50 ml VMS (CuSO₄, H₂SO₄, NaCl dle specifikace)
- Pracovní elektroda: rotační disková Pt-RDE s Pt hrotem
- Pomocná elektroda: Pt
- Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/l) se středním elektrolytem KNO₃:H₂O (3:1)
- Parametry CVS: počáteční potenciál 1,575 V, vertex -0,25 V, zpětný vrchol 1,575 V, krok 6 mV, rychlost 0,1 V/s, otáčky 2000 rpm
- Kalibrace: ředicí titrace, vyhodnocení poměru Q/Q₀ = 0,75 při Cu-peaku 0,2 V ±0,2 V
Hlavní výsledky a diskuse
Stanovení suppressoru proběhlo s dobrou linearitou kalibrační křivky v rozsahu řádu 10⁻¹ mg/l. Cyklické voltametrické křivky ukázaly charakteristický strippingový vrchol Cu při ~0,2 V. S rostoucí koncentrací suppressoru redoxní proud klesal, což odpovídá inhibičnímu účinku přísady. Titrace umožnila spolehlivě kvantifikovat aktivní složku v přítomnosti dalších elektrolytů.
Přínosy a praktické využití metody
- Rychlá a citlivá detekce suppressoru zamezuje nadbytečnému dávkování
- Metoda vyžaduje minimální přípravu vzorku
- Možnost integrace do on-line monitoringu lázní
Budoucí trendy a možnosti využití
- Automatizace ředicí titrace přímo v elektrolytickém okruhu
- Vývoj vícekanálových CVS metod pro simultánní stanovení více přísad
- Využití moderních elektrodových materiálů pro zvýšení citlivosti
Závěr
Metoda ředicí titrace v kombinaci s cyklickou voltametrií strippingem nabízí spolehlivou, citlivou a snadno implementovatelnou analýzu suppressoru Cupracid BL-CT v kyselých mědířských lázních. Díky minimální přípravě vzorku a rychlému vyhodnocení je vhodná pro průběžnou kontrolu a optimalizaci povlakovacího procesu.
Reference
- Application Note No. V-135, Atotech, Version 1.0
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 133 Title: Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of suppressor «Copper Gleam 2001 Carrier» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic…
Klíčová slova
copper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmshaas, haascvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic
VA Application Note No. V - 141 Title: Suppressor «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in acid copper baths (MacDermid) Summary: Determination of suppressor «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample:…
Klíčová slova
wetter, wettercopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialmacdermid, macdermidppr, ppracid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Brightener «Cupracid BL» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 136 Title: Brightener «Cupracid BL» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of brightener «Cupracid BL» in acid copper baths by linear approximation technique (LAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating…
Klíčová slova
brightener, brightenercupracid, cupracidlat, latcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechq'intercept, q'interceptacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingapproximation
