Suppressor «MACuSpec TM PPR 100 Wetter» in acid copper baths (MacDermid)
Aplikace | | MetrohmInstrumentace
Kontrola koncentrace potlačovačů v kyselých mědových pokovovacích lázních je nezbytná pro zajištění kvality a konzistence povlaků v průmyslových i výzkumných aplikacích. Precizní stanovení potlačovače MACuSpecTM PPR 100 Wetter přispívá k minimalizaci defektů a optimalizaci procesu pokovování.
Studie uvádí postup pro kvantitativní analýzu potlačovače MACuSpecTM PPR 100 Wetter v kyselých mědových elektrolytech. Klíčovým cílem je nabídnout rychlou, spolehlivou a reprodukovatelnou metodu vhodnou pro rutinní kontrolu lázní.
Vzorek lázně byl ředěn v poměru 1:10 pomocí nově připraveného roztoku VMS (Virgin make-up solution).
Metoda vykázala lineární závislost signálu na přidaném objemu standardního roztoku potlačovače v rozsahu 0 až 1,20 mL. Vrcholové proudy kovu se objevují kolem 0,25 V (± 0,25 V), což umožňuje přesnou kvantifikaci. Poměr Q/Q(0) poskytuje stabilní a citlivé vyhodnocení i při nižších koncentracích.
Metoda nabízí následující výhody:
Další rozvoj může zahrnovat automatizaci dilučních titrací v online režimu, miniaturizaci elektrochemických senzorů pro inline monitoring, rozšíření metody na vícero potlačovačů a integraci pokročilé datové analýzy včetně umělé inteligence pro prediktivní řízení procesu pokovování.
Spojení cyklické voltametrie se strippingem a ředicí titrace poskytuje efektivní nástroj pro přesné stanovení MACuSpecTM PPR 100 Wetter v kyselých mědových lázních. Metoda je rychlá, spolehlivá a snadno implementovatelná v rámci průmyslové a výzkumné praxe.
Voltametrie/Coulometrie
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceMetrohm
Souhrn
Význam tématu
Kontrola koncentrace potlačovačů v kyselých mědových pokovovacích lázních je nezbytná pro zajištění kvality a konzistence povlaků v průmyslových i výzkumných aplikacích. Precizní stanovení potlačovače MACuSpecTM PPR 100 Wetter přispívá k minimalizaci defektů a optimalizaci procesu pokovování.
Cíle a přehled studie
Studie uvádí postup pro kvantitativní analýzu potlačovače MACuSpecTM PPR 100 Wetter v kyselých mědových elektrolytech. Klíčovým cílem je nabídnout rychlou, spolehlivou a reprodukovatelnou metodu vhodnou pro rutinní kontrolu lázní.
Použitá metodika a instrumentace
Vzorek lázně byl ředěn v poměru 1:10 pomocí nově připraveného roztoku VMS (Virgin make-up solution).
- Pracovní elektroda: rotační Pt-RDE (2000 rpm)
- Pomocná elektroda: Pt tyč
- Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L) se středním elektrolytem H2SO4 (1 mol/L)
- Měřicí roztok: 80 mL VMS
- Režim: cyklická voltametrie se strippingem (CVS)
- Nastavení: napěťový krok 0,006 V, rychlost skenování 0,1 V/s, startovací potenciál 1,575 V, vertexy na ‑0,175 V a 1,575 V
- Kalibrace: ředicí titrace (DT) sledovaná poměrem náboje Q/Q(0) = 0,5
Hlavní výsledky a diskuse
Metoda vykázala lineární závislost signálu na přidaném objemu standardního roztoku potlačovače v rozsahu 0 až 1,20 mL. Vrcholové proudy kovu se objevují kolem 0,25 V (± 0,25 V), což umožňuje přesnou kvantifikaci. Poměr Q/Q(0) poskytuje stabilní a citlivé vyhodnocení i při nižších koncentracích.
Přínosy a praktické využití metody
Metoda nabízí následující výhody:
- Vysokou přesnost a reprodukovatelnost analýzy
- Rychlou odezvu vhodnou pro rutinní QA/QC
- Jednoduchou přípravu vzorku bez složitých zásahů
- Možnost implementace přímo v provozech a výzkumných laboratořích
Budoucí trendy a možnosti využití
Další rozvoj může zahrnovat automatizaci dilučních titrací v online režimu, miniaturizaci elektrochemických senzorů pro inline monitoring, rozšíření metody na vícero potlačovačů a integraci pokročilé datové analýzy včetně umělé inteligence pro prediktivní řízení procesu pokovování.
Závěr
Spojení cyklické voltametrie se strippingem a ředicí titrace poskytuje efektivní nástroj pro přesné stanovení MACuSpecTM PPR 100 Wetter v kyselých mědových lázních. Metoda je rychlá, spolehlivá a snadno implementovatelná v rámci průmyslové a výzkumné praxe.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 133 Title: Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of suppressor «Copper Gleam 2001 Carrier» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic…
Klíčová slova
copper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmshaas, haascvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
VA Application Note No. V - 143 Title: Suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath (MacDermid) Summary: Determination of suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
bath, bathvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodepotential, potentialmacdermid, macdermidacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic, hydrodynamicelectrolyte