LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Suppressor «MACuSpec TM PPR 100 Wetter» in acid copper baths (MacDermid)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Kontrola koncentrace potlačovačů v kyselých mědových pokovovacích lázních je nezbytná pro zajištění kvality a konzistence povlaků v průmyslových i výzkumných aplikacích. Precizní stanovení potlačovače MACuSpecTM PPR 100 Wetter přispívá k minimalizaci defektů a optimalizaci procesu pokovování.

Cíle a přehled studie


Studie uvádí postup pro kvantitativní analýzu potlačovače MACuSpecTM PPR 100 Wetter v kyselých mědových elektrolytech. Klíčovým cílem je nabídnout rychlou, spolehlivou a reprodukovatelnou metodu vhodnou pro rutinní kontrolu lázní.

Použitá metodika a instrumentace


Vzorek lázně byl ředěn v poměru 1:10 pomocí nově připraveného roztoku VMS (Virgin make-up solution).
  • Pracovní elektroda: rotační Pt-RDE (2000 rpm)
  • Pomocná elektroda: Pt tyč
  • Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L) se středním elektrolytem H2SO4 (1 mol/L)
  • Měřicí roztok: 80 mL VMS
  • Režim: cyklická voltametrie se strippingem (CVS)
  • Nastavení: napěťový krok 0,006 V, rychlost skenování 0,1 V/s, startovací potenciál 1,575 V, vertexy na ‑0,175 V a 1,575 V
  • Kalibrace: ředicí titrace (DT) sledovaná poměrem náboje Q/Q(0) = 0,5

Hlavní výsledky a diskuse


Metoda vykázala lineární závislost signálu na přidaném objemu standardního roztoku potlačovače v rozsahu 0 až 1,20 mL. Vrcholové proudy kovu se objevují kolem 0,25 V (± 0,25 V), což umožňuje přesnou kvantifikaci. Poměr Q/Q(0) poskytuje stabilní a citlivé vyhodnocení i při nižších koncentracích.

Přínosy a praktické využití metody


Metoda nabízí následující výhody:
  • Vysokou přesnost a reprodukovatelnost analýzy
  • Rychlou odezvu vhodnou pro rutinní QA/QC
  • Jednoduchou přípravu vzorku bez složitých zásahů
  • Možnost implementace přímo v provozech a výzkumných laboratořích

Budoucí trendy a možnosti využití


Další rozvoj může zahrnovat automatizaci dilučních titrací v online režimu, miniaturizaci elektrochemických senzorů pro inline monitoring, rozšíření metody na vícero potlačovačů a integraci pokročilé datové analýzy včetně umělé inteligence pro prediktivní řízení procesu pokovování.

Závěr


Spojení cyklické voltametrie se strippingem a ředicí titrace poskytuje efektivní nástroj pro přesné stanovení MACuSpecTM PPR 100 Wetter v kyselých mědových lázních. Metoda je rychlá, spolehlivá a snadno implementovatelná v rámci průmyslové a výzkumné praxe.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
VA Application Note No. V - 133 Title: Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of suppressor «Copper Gleam 2001 Carrier» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic…
Klíčová slova
copper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmshaas, haascvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
Suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath (MacDermid)
VA Application Note No. V - 143 Title: Suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath (MacDermid) Summary: Determination of suppressor «MultiBondTM 100 Part A20» in an acid copper bath by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
bath, bathvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodepotential, potentialmacdermid, macdermidacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic, hydrodynamicelectrolyte
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.