Suppressor «InPulse H6» in acid copper baths (Atotech)
Aplikace | | MetrohmInstrumentace
U elektronického pokovování mědi na polovodičových součástkách a spojích je klíčové přesné řízení aditiv. Potlačovač InPulse H6 ovlivňuje kvalitu a rovnoměrnost nanesené měděné vrstvy, proto je spolehlivé stanovení jeho koncentrace zásadní pro optimalizaci procesu a zajištění reprodukovatelnosti.
Cílem studie bylo vyvinout a validovat rychlou a přesnou metodu stanovení potlačovače InPulse H6 v kyselých mědních lázních. Použití ředicí titrace v kombinaci s cyklickou voltametrickou stripovací analýzou (CVS) mělo zajistit minimální přípravu vzorku a vysokou citlivost měření.
Pracovní roztok tvořila 100ml směs CuSO₄, H₂SO₄ a NaCl podle specifikací dodavatele. Analytická sestava zahrnovala:
Metoda prokázala lineární kalibrační křivku v rozsahu relevantních koncentrací potlačovače. Cyklické voltametrické prahy přinesly opakovatelné a citlivé odezvy s vrcholovým potenciálem kolem 0,2 V. Grafy intenzity proudu versus potenciál a závislost náboje Q/Q(0) na objemu ředicího roztoku potvrdily robustnost postupu.
Rychlá analýza bez složité přípravy vzorku umožňuje v reálném čase sledovat koncentraci potlačovače a optimalizovat dávkování aditiv. Metoda je vhodná pro automatizaci v průmyslové praxi i pro laboratorní QA/QC rutinu.
Možnosti rozšíření zahrnují miniaturizaci elektrochemických senzorů, integraci do online monitorovacích systémů, rozšíření na vícenásobnou detekci dalších aditiv a využití pokročilých datových analýz pro predikci chování procesů.
Ředicí titrace spojená s cyklickou voltametrií poskytuje spolehlivý a efektivní nástroj pro stanovení potlačovače InPulse H6 v kyselých mědových lázních. Metoda splňuje požadavky praxe na rychlost, citlivost a reprodukovatelnost.
Atotech VA Application Note No. V-146, Version 1.0
Voltametrie/Coulometrie
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceMetrohm
Souhrn
Význam tématu
U elektronického pokovování mědi na polovodičových součástkách a spojích je klíčové přesné řízení aditiv. Potlačovač InPulse H6 ovlivňuje kvalitu a rovnoměrnost nanesené měděné vrstvy, proto je spolehlivé stanovení jeho koncentrace zásadní pro optimalizaci procesu a zajištění reprodukovatelnosti.
Cíle a přehled studie
Cílem studie bylo vyvinout a validovat rychlou a přesnou metodu stanovení potlačovače InPulse H6 v kyselých mědních lázních. Použití ředicí titrace v kombinaci s cyklickou voltametrickou stripovací analýzou (CVS) mělo zajistit minimální přípravu vzorku a vysokou citlivost měření.
Použitá metodika a instrumentace
Pracovní roztok tvořila 100ml směs CuSO₄, H₂SO₄ a NaCl podle specifikací dodavatele. Analytická sestava zahrnovala:
- Pracovní elektrodu Pt-RDE s otáčkami 2000 rpm
- Pomocnou elektrodu Pt
- Referenční Ag/AgCl/KCl (3 mol/l) s mezilehlým elektrolytem KNO₃
- Startovací potenciál 1,575 V
- Vertikální body -0,25 V a zpět 1,575 V
- Potenciálový krok 0,006 V
- Rychlost skenu 0,1 V/s
- Hodnocení na základě poměru náboje Q/Q(0)=0,65
Hlavní výsledky a diskuse
Metoda prokázala lineární kalibrační křivku v rozsahu relevantních koncentrací potlačovače. Cyklické voltametrické prahy přinesly opakovatelné a citlivé odezvy s vrcholovým potenciálem kolem 0,2 V. Grafy intenzity proudu versus potenciál a závislost náboje Q/Q(0) na objemu ředicího roztoku potvrdily robustnost postupu.
Přínosy a praktické využití metody
Rychlá analýza bez složité přípravy vzorku umožňuje v reálném čase sledovat koncentraci potlačovače a optimalizovat dávkování aditiv. Metoda je vhodná pro automatizaci v průmyslové praxi i pro laboratorní QA/QC rutinu.
Budoucí trendy a možnosti využití
Možnosti rozšíření zahrnují miniaturizaci elektrochemických senzorů, integraci do online monitorovacích systémů, rozšíření na vícenásobnou detekci dalších aditiv a využití pokročilých datových analýz pro predikci chování procesů.
Závěr
Ředicí titrace spojená s cyklickou voltametrií poskytuje spolehlivý a efektivní nástroj pro stanovení potlačovače InPulse H6 v kyselých mědových lázních. Metoda splňuje požadavky praxe na rychlost, citlivost a reprodukovatelnost.
Reference
Atotech VA Application Note No. V-146, Version 1.0
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 137 Title: Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath Sample preparation:…
Klíčová slova
cupraspeed, cupraspeedsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdevoltammetric, voltammetricworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs
Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 133 Title: Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of suppressor «Copper Gleam 2001 Carrier» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic…
Klíčová slova
copper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmshaas, haascvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
VA Application Note No. V - 182 Title: Suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample:…
Klíčová slova
lucina, lucinasuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, coppertop, topelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunoacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
