Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)
Aplikace | | MetrohmInstrumentace
Parametry měření:
Voltametrie/Coulometrie
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceMetrohm
Souhrn
Význam tématu
Suppressory ve mědění hrají klíčovou roli při řízení kinetiky depozice mědi, ovlivňují homogennost vrstvy, lesk a adhezi povlaku.Cíle a přehled studie
Cílem této aplikace je kvantitativní stanovení potlačovače Cupraspeed v kyselých měděných lázních pomocí ředicí titrace spojené s cyklickou voltametrickou strippingovou analýzou (CVS). Metoda spojuje stechiometrické ředění vzorku a elektrochemická měření náboje odtržení mědi, což umožňuje rychlé a přesné stanovení koncentrace supresoru.Použitá metodika
Metoda využívá hydrodynamické CVS s rotační diskovou elektrodou (RDE) za konstantní rychlosti míchání. Kalibrace probíhá ředicí titrací, při níž se sleduje poměr náboje Cu odtržení s potlačovačem vůči referenčnímu náboji bez potlačovače (Q/Q(0)).Parametry měření:
- Rychlost míchání: 2000 rpm
- Režim: CVS
- Startovací potenciál: +1,575 V
- Minimální vertex potenciál: -0,25 V
- Maximální vertex potenciál: +1,575 V
- Voltový krok: 0,006 V
- Rychlost skenování: 0,1 V/s
- Hodnocený potenciál Cu: cca +0,2 V
- Evaluační poměr: Q/Q(0) = 0,7
Použitá instrumentace
- Pracovní elektroda: Pt-RDE (typ 6.1246.000 s Pt hrotem 6.1204.160)
- Pomocná elektroda: Pt drát (6.0343.000)
- Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L, 6.0728.020) s mezielektrolytem KNO3/H2O (3:1, 6.1245.010)
- Elektrolyt: Virgin Make-up Solution s CuSO4, H2SO4 a NaCl dle specifikací
- Měřicí roztok: 100 mL VMS
Hlavní výsledky a diskuse
Strippingová křivka ukázala pokles proudu při vzrůstající koncentraci supresoru, což odráží efektivní potlačení depozice mědi. Kalibrační křivka Q/Q(0) vs. objem přidaného VMS je lineární, což dovoluje precizní stanovení potlačovače.Přínosy a praktické využití metody
- Rychlá a opakovatelná metoda s minimální přípravou vzorku
- Vysoká přesnost a citlivost v rozsahu pracovní koncentrace supresoru
- Snadná implementace pro kontrolu kvality ve výrobě elektrolytů
Budoucí trendy a možnosti využití
- Automatizované inline ředicí titrace s CVS
- Integrace do průmyslových systémů monitoringu a řízení procesů
- Rozšíření metody pro simultánní stanovení dalších přísad lázní
Závěr
Kombinace ředicí titrace a CVS poskytuje spolehlivý nástroj pro kvantifikaci potlačovače Cupraspeed v kyselých měděných lázních, přispívá ke zlepšení řízení kvality a optimalizaci elektrolytických procesů.Reference
- Atotech Application Note V-137, Version 1.0
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Suppressor «InPulse H6» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 146 Title: Suppressor «InPulse H6» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «InPulse H6» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodepotential, potentialmakeu, makeuatotech, atotechrde, rdevoltammetric, voltammetricworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmsbaths, bathscvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic, hydrodynamicelectrolyte
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
VA Application Note No. V - 182 Title: Suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample:…
Klíčová slova
lucina, lucinasuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, coppertop, topelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunoacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms