LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu

Suppressory ve mědění hrají klíčovou roli při řízení kinetiky depozice mědi, ovlivňují homogennost vrstvy, lesk a adhezi povlaku.

Cíle a přehled studie

Cílem této aplikace je kvantitativní stanovení potlačovače Cupraspeed v kyselých měděných lázních pomocí ředicí titrace spojené s cyklickou voltametrickou strippingovou analýzou (CVS). Metoda spojuje stechiometrické ředění vzorku a elektrochemická měření náboje odtržení mědi, což umožňuje rychlé a přesné stanovení koncentrace supresoru.

Použitá metodika

Metoda využívá hydrodynamické CVS s rotační diskovou elektrodou (RDE) za konstantní rychlosti míchání. Kalibrace probíhá ředicí titrací, při níž se sleduje poměr náboje Cu odtržení s potlačovačem vůči referenčnímu náboji bez potlačovače (Q/Q(0)).
Parametry měření:
  • Rychlost míchání: 2000 rpm
  • Režim: CVS
  • Startovací potenciál: +1,575 V
  • Minimální vertex potenciál: -0,25 V
  • Maximální vertex potenciál: +1,575 V
  • Voltový krok: 0,006 V
  • Rychlost skenování: 0,1 V/s
  • Hodnocený potenciál Cu: cca +0,2 V
  • Evaluační poměr: Q/Q(0) = 0,7

Použitá instrumentace

  • Pracovní elektroda: Pt-RDE (typ 6.1246.000 s Pt hrotem 6.1204.160)
  • Pomocná elektroda: Pt drát (6.0343.000)
  • Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L, 6.0728.020) s mezielektrolytem KNO3/H2O (3:1, 6.1245.010)
  • Elektrolyt: Virgin Make-up Solution s CuSO4, H2SO4 a NaCl dle specifikací
  • Měřicí roztok: 100 mL VMS

Hlavní výsledky a diskuse

Strippingová křivka ukázala pokles proudu při vzrůstající koncentraci supresoru, což odráží efektivní potlačení depozice mědi. Kalibrační křivka Q/Q(0) vs. objem přidaného VMS je lineární, což dovoluje precizní stanovení potlačovače.

Přínosy a praktické využití metody

  • Rychlá a opakovatelná metoda s minimální přípravou vzorku
  • Vysoká přesnost a citlivost v rozsahu pracovní koncentrace supresoru
  • Snadná implementace pro kontrolu kvality ve výrobě elektrolytů

Budoucí trendy a možnosti využití

  • Automatizované inline ředicí titrace s CVS
  • Integrace do průmyslových systémů monitoringu a řízení procesů
  • Rozšíření metody pro simultánní stanovení dalších přísad lázní

Závěr

Kombinace ředicí titrace a CVS poskytuje spolehlivý nástroj pro kvantifikaci potlačovače Cupraspeed v kyselých měděných lázních, přispívá ke zlepšení řízení kvality a optimalizaci elektrolytických procesů.

Reference

  • Atotech Application Note V-137, Version 1.0

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Suppressor «InPulse H6» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 146 Title: Suppressor «InPulse H6» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «InPulse H6» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodepotential, potentialmakeu, makeuatotech, atotechrde, rdevoltammetric, voltammetricworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmsbaths, bathscvs, cvsvirgin, virginhydrodynamic, hydrodynamicelectrolyte
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries)
VA Application Note No. V - 182 Title: Suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample:…
Klíčová slova
lucina, lucinasuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, coppertop, topelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunoacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.