LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Brightener «Cupracid BL» in acid copper baths (Atotech)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Elektrolytické acidní měděné lázně s přídavkem brighteneru Cupracid BL jsou zásadní pro dosažení kvalitních a hladkých pokovených povrchů v elektronickém a dekorativním průmyslu.
Precizní kontrola koncentrace brighteneru zajišťuje konzistentní výkon lázně, minimalizuje vady povlaku a optimalizuje technologické parametry pokovování.

Cíle a přehled studie


Cílem aplikace je vyvinout a ověřit metodu pro kvantitativní stanovení brighteneru Cupracid BL v acidních měděných koupelích pomocí techniky lineární aproximace (LAT) v kombinaci s cyklickou voltametrickou stripovací analýzou (CVS).
Studie demonstruje přípravu měřicího roztoku, průběh měření a kalibraci, analyzuje přesnost a linearitu odezvy.

Použitá metodika a instrumentace


Metoda: cyklická voltametrie s elektrochemickým stripováním v režimu CVS a kalibrací pomocí lineární aproximace (LAT).

Pracovní roztok (Intercept solution):
  • 24,5 mL virgin make-up solution dle specifikace dodavatele (CuSO4, H2SO4, NaCl).
  • 0,5 mL standardního suppressoru Cupracid BL-CT.
  • Vzorek: 75 mL acidní měděné lázně.

Instrumentace:
  • Pracovní elektroda: Pt-RDE (rotující disková elektroda); otáčky 2000 rpm.
  • Auxilární elektroda: platinový drát.
  • Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L) s mezielektrolytem KNO3 (3:1 sat.).

Voltametrické parametry:
  • Startovací potenciál: +1,575 V.
  • První vertex: -0,25 V, druhý: +1,575 V.
  • Krok napětí: 0,006 V, rychlost skenování: 0,1 V/s.
  • Detekovaný anodický vrchol mědi: cca +0,2 V ±0,2 V.

Hlavní výsledky a diskuse


Cyklické voltamogramy ukázaly dobře vymezený anodický vrchol odpovídající stripování mědi v přítomnosti brighteneru.
Lineární závislost nabíjecího rozdílu (Q–Q'Intercept) na koncentraci Cupracid BL byla potvrzena v pracovním rozsahu, což umožňuje přesnou kvantifikaci.
Metoda prokázala dobrou opakovatelnost a lineární odezvu v koncentracích relevantních pro průmyslovou praxi.

Přínosy a praktické využití metody


Rychlé vyhodnocení bez nutnosti komplexní předúpravy vzorku.
Vysoká citlivost a selektivita pro brightener Cupracid BL přímo v provozních lázních.
Možnost začlenění do rutinního QA/QC laboratoře a online monitoringu elektrolytických koupelí.

Budoucí trendy a možnosti využití


Integrace automatizovaných voltametrických modulů přímo na výrobní linky.
Rozšíření metody na stanovení dalších typů brightenerů a přísad v povrchových úpravách.
Vývoj miniaturizovaných sensorů pro kontinuální monitoring a optimalizaci procesů.

Závěr


Prezentovaná metoda CVS-LAT nabízí efektivní, rychlý a spolehlivý postup pro stanovení brighteneru Cupracid BL v acidních měděných koupelích bez složité předúpravy vzorku.
Je vhodná pro rutinní kontrolu kvality a optimalizaci elektrolytických procesů v průmyslovém měřítku.

Reference


  • Neuvedeno

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Brightener «MACuSpec TM PPR 100 Brightener» in acid copper baths (MacDermid)
VA Application Note No. V - 142 Title: Brightener «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» in acid copper baths (MacDermid) Summary: Determination of brightener «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
mlat, mlatbrightener, brightenervertex, vertexcopper, coppervms, vmselectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialmacdermid, macdermidsolution, solutionq'intercept, q'interceptppr, ppracid, acidrde, rdevoltammetric
Brightener «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 138 Title: Brightener «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of brightener «Cupraspeed» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupraspeed, cupraspeedbrightener, brightenermlat, mlatcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechq'intercept, q'interceptacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingapproximation
Brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
VA Application Note No. V - 134 Title: Brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT)…
Klíčová slova
mlat, mlatcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmq'intercept, q'interceptbrightener, brighteneracid, acidrde, rdevoltammetric, voltammetricworking, workingelectroplating, electroplatingapproximation
Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 156 Title: Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Sample preparation:…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuracopper, coppersolution, solutionq'intercept, q'interceptmlat, mlatrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmsapproximation, approximationcvs
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.