Suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries)
Aplikace | | MetrohmInstrumentace
Acidní měděné pokovovací lázně vyžadují přísné řízení koncentrace polymerních potlačovačů pro zajištění rovnoměrného povlaku a vysoké kvality povrchu. Top Lucina alfa-M je běžně používaný supresor, jehož přesné stanovení umožňuje optimalizaci výrobního procesu a minimalizaci odpadních materiálů.
Cílem bylo vyvinout spolehlivou analytickou metodu pro kvantitativní stanovení supresoru Top Lucina alfa-M v acidních měděných lázních. Studie se zaměřila na postup ředění titrace (DT) v kombinaci s cyklickým voltammetrickým strippingem (CVS) pro přímou analýzu vzorků bez předchozí úpravy.
Studie prokázala lineární závislost mezi přídavkem supresoru a změnou elektrického náboje během CVS měření. Metoda dosahuje vysoké citlivosti i reprodukovatelnosti, přičemž ovlivnění od vedlejších složek elektrolytu je minimální. Diskutovány jsou vlivy rychlosti otáčení elektrody a volby potenciálních limitů na kvalitu signálu.
Další vývoj metody směřuje k automatizaci dávkování supresoru na základě online monitoringu CVS. Perspektivní je rozšíření na stanovení dalších polymerních přísad a adaptace na vícekanálové systémy pro paralelní analýzu vícero lázní.
Metoda ředění titrace v kombinaci s cyklickým voltammetrickým strippingem představuje efektivní a spolehlivý nástroj pro měření koncentrace Top Lucina alfa-M v acidních měděných lázních. Nabízí vysokou přesnost, citlivost a jednoduchou implementaci v průmyslové praxi.
Voltametrie/Coulometrie
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceMetrohm
Souhrn
Význam tématu
Acidní měděné pokovovací lázně vyžadují přísné řízení koncentrace polymerních potlačovačů pro zajištění rovnoměrného povlaku a vysoké kvality povrchu. Top Lucina alfa-M je běžně používaný supresor, jehož přesné stanovení umožňuje optimalizaci výrobního procesu a minimalizaci odpadních materiálů.
Cíle a přehled studie
Cílem bylo vyvinout spolehlivou analytickou metodu pro kvantitativní stanovení supresoru Top Lucina alfa-M v acidních měděných lázních. Studie se zaměřila na postup ředění titrace (DT) v kombinaci s cyklickým voltammetrickým strippingem (CVS) pro přímou analýzu vzorků bez předchozí úpravy.
Použitá metodika a instrumentace
- Základní elektrolyt: virgin make-up solution se specifikovanými koncentracemi CuSO4, H2SO4 a NaCl.
- Přímé ředění vzorku bez další úpravy.
- CVS měření s rotující Pt-RDE elektrodou při 2000 rpm pro hydrodynamické podmínky.
- Kalibrace prováděná metodou ředění titrace s dimenzí Q/Q0 = 0,5.
- Měřicí parametry: start 1,625 V, první vertex –0,175 V, druhý vertex 1,625 V, krok 0,006 V, rychlost skenování 0,1 V/s.
Hlavní výsledky a diskuse
Studie prokázala lineární závislost mezi přídavkem supresoru a změnou elektrického náboje během CVS měření. Metoda dosahuje vysoké citlivosti i reprodukovatelnosti, přičemž ovlivnění od vedlejších složek elektrolytu je minimální. Diskutovány jsou vlivy rychlosti otáčení elektrody a volby potenciálních limitů na kvalitu signálu.
Přínosy a praktické využití metody
- Rychlá analýza bez potřeby složité předúpravy vzorků.
- Možnost zařazení do rutinních QA/QC protokolů v průmyslových laboratořích.
- Vysoká selektivita zabraňuje interferencím z ostatních složek lázně.
Budoucí trendy a možnosti využití
Další vývoj metody směřuje k automatizaci dávkování supresoru na základě online monitoringu CVS. Perspektivní je rozšíření na stanovení dalších polymerních přísad a adaptace na vícekanálové systémy pro paralelní analýzu vícero lázní.
Závěr
Metoda ředění titrace v kombinaci s cyklickým voltammetrickým strippingem představuje efektivní a spolehlivý nástroj pro měření koncentrace Top Lucina alfa-M v acidních měděných lázních. Nabízí vysokou přesnost, citlivost a jednoduchou implementaci v průmyslové praxi.
Použitá instrumentace
- Pracovní elektroda Pt-RDE (rotující disková elektroda) s rychlostí 2000 rpm
- Pomocná elektroda Pt
- Referenční elektroda Ag/AgCl/KCl (3 mol/L)
- Potenciostat/galvanostat s módem cyklického voltammetrického strippingu
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
VA Application Note No. V - 183 Title: Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunocopper, copperq'intercept, q'interceptmlat, mlatbrightener, brightenerrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 184 Title: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialelectrolyte, electrolyteokuno, okunocopper, copperleveler, levelertechnique, techniquerde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 137 Title: Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath Sample preparation:…
Klíčová slova
cupraspeed, cupraspeedsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdevoltammetric, voltammetricworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin