LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Suppressor «Top Lucina α-M» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Acidní měděné pokovovací lázně vyžadují přísné řízení koncentrace polymerních potlačovačů pro zajištění rovnoměrného povlaku a vysoké kvality povrchu. Top Lucina alfa-M je běžně používaný supresor, jehož přesné stanovení umožňuje optimalizaci výrobního procesu a minimalizaci odpadních materiálů.

Cíle a přehled studie


Cílem bylo vyvinout spolehlivou analytickou metodu pro kvantitativní stanovení supresoru Top Lucina alfa-M v acidních měděných lázních. Studie se zaměřila na postup ředění titrace (DT) v kombinaci s cyklickým voltammetrickým strippingem (CVS) pro přímou analýzu vzorků bez předchozí úpravy.

Použitá metodika a instrumentace


  • Základní elektrolyt: virgin make-up solution se specifikovanými koncentracemi CuSO4, H2SO4 a NaCl.
  • Přímé ředění vzorku bez další úpravy.
  • CVS měření s rotující Pt-RDE elektrodou při 2000 rpm pro hydrodynamické podmínky.
  • Kalibrace prováděná metodou ředění titrace s dimenzí Q/Q0 = 0,5.
  • Měřicí parametry: start 1,625 V, první vertex –0,175 V, druhý vertex 1,625 V, krok 0,006 V, rychlost skenování 0,1 V/s.

Hlavní výsledky a diskuse


Studie prokázala lineární závislost mezi přídavkem supresoru a změnou elektrického náboje během CVS měření. Metoda dosahuje vysoké citlivosti i reprodukovatelnosti, přičemž ovlivnění od vedlejších složek elektrolytu je minimální. Diskutovány jsou vlivy rychlosti otáčení elektrody a volby potenciálních limitů na kvalitu signálu.

Přínosy a praktické využití metody


  • Rychlá analýza bez potřeby složité předúpravy vzorků.
  • Možnost zařazení do rutinních QA/QC protokolů v průmyslových laboratořích.
  • Vysoká selektivita zabraňuje interferencím z ostatních složek lázně.

Budoucí trendy a možnosti využití


Další vývoj metody směřuje k automatizaci dávkování supresoru na základě online monitoringu CVS. Perspektivní je rozšíření na stanovení dalších polymerních přísad a adaptace na vícekanálové systémy pro paralelní analýzu vícero lázní.

Závěr


Metoda ředění titrace v kombinaci s cyklickým voltammetrickým strippingem představuje efektivní a spolehlivý nástroj pro měření koncentrace Top Lucina alfa-M v acidních měděných lázních. Nabízí vysokou přesnost, citlivost a jednoduchou implementaci v průmyslové praxi.

Použitá instrumentace


  • Pracovní elektroda Pt-RDE (rotující disková elektroda) s rychlostí 2000 rpm
  • Pomocná elektroda Pt
  • Referenční elektroda Ag/AgCl/KCl (3 mol/L)
  • Potenciostat/galvanostat s módem cyklického voltammetrického strippingu

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries)
VA Application Note No. V - 183 Title: Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunocopper, copperq'intercept, q'interceptmlat, mlatbrightener, brightenerrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries)
VA Application Note No. V - 184 Title: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialelectrolyte, electrolyteokuno, okunocopper, copperleveler, levelertechnique, techniquerde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 137 Title: Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath Sample preparation:…
Klíčová slova
cupraspeed, cupraspeedsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdevoltammetric, voltammetricworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 135 Title: Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupracid, cupracidsuppressor, suppressorcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmscvs, cvsvirgin
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.