Leveler «Thru-Cup EVF-R» in acid copper baths (Uyemura)
Aplikace | | MetrohmInstrumentace
Elektrochemická analýza pomocí cyklického voltametrického stripování (CVS) je zásadní pro kontrolu přísad v měděných galvanizačních koupelích. Přesné stanovení hladin doplňků zajišťuje kvalitu povlaků a stabilitu výrobního procesu.
Cílem bylo vyvinout a ověřit metodu pro kvantitativní stanovení leveleru Thru-Cup EVF-R v kyselých měděných elektrolytech. Studie využívá techniku kalibrace křivkou odezvy (RC) v kombinaci s CVS na rotačním drženém elektrodě (RDE).
Analýza probíhala bez předúpravy vzorku přímo z průmyslové koupelové směsi. Použité přístroje:
Podmínky CVS umožnily identifikovat oxidační špičku mědi kolem 0,2 V. Kalibrační křivka odezvy vykázala lineární závislost signálu na koncentraci leveleru v sledovaném rozsahu. Metoda prokázala dostatečnou citlivost a reprodukovatelnost pro průmyslovou praxi.
Očekává se integrace CVS senzorů do online monitorovacích systémů galvanických linek. Metodu lze dále rozšířit o simultánní stanovení dalších přísad a využít v automatizované kvalitě nadzoru.
Popsaná metoda založená na CVS s RDE a kalibrací křivkou odezvy poskytuje spolehlivý nástroj pro kvantifikaci leveleru Thru-Cup EVF-R v kyselých měděných elektrolytech. Je vhodná pro pravidelnou kontrolu provozních koupelí.
VA Application Note No. V-157 Thru-Cup EVF-R in acid copper baths – Uyemura, Version 1.0
Voltametrie/Coulometrie
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceMetrohm
Souhrn
Význam tématu
Elektrochemická analýza pomocí cyklického voltametrického stripování (CVS) je zásadní pro kontrolu přísad v měděných galvanizačních koupelích. Přesné stanovení hladin doplňků zajišťuje kvalitu povlaků a stabilitu výrobního procesu.
Cíle a přehled studie
Cílem bylo vyvinout a ověřit metodu pro kvantitativní stanovení leveleru Thru-Cup EVF-R v kyselých měděných elektrolytech. Studie využívá techniku kalibrace křivkou odezvy (RC) v kombinaci s CVS na rotačním drženém elektrodě (RDE).
Použitá metodika a instrumentace
Analýza probíhala bez předúpravy vzorku přímo z průmyslové koupelové směsi. Použité přístroje:
- Pracovní elektroda: Pt-RDE se špičkou pro CVS
- Auxilární elektroda: platina
- Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L) s mezielektrolytem KNO3
- Rotační rychlost: 2600 rpm
- Potenciostatický režim: CVS, rozsah 1,625 V → –0,175 V → 1,625 V, krok 6 mV, rychlost 0,1 V/s
Hlavní výsledky a diskuse
Podmínky CVS umožnily identifikovat oxidační špičku mědi kolem 0,2 V. Kalibrační křivka odezvy vykázala lineární závislost signálu na koncentraci leveleru v sledovaném rozsahu. Metoda prokázala dostatečnou citlivost a reprodukovatelnost pro průmyslovou praxi.
Přínosy a praktické využití metody
- Rychlá a přímá analýza bez složité přípravy vzorku
- Možnost častého monitorování úrovně doplňků v koupeli
- Zvýšení kvality povlaků a snížení odchylek v procesu
Budoucí trendy a možnosti využití
Očekává se integrace CVS senzorů do online monitorovacích systémů galvanických linek. Metodu lze dále rozšířit o simultánní stanovení dalších přísad a využít v automatizované kvalitě nadzoru.
Závěr
Popsaná metoda založená na CVS s RDE a kalibrací křivkou odezvy poskytuje spolehlivý nástroj pro kvantifikaci leveleru Thru-Cup EVF-R v kyselých měděných elektrolytech. Je vhodná pro pravidelnou kontrolu provozních koupelí.
Reference
VA Application Note No. V-157 Thru-Cup EVF-R in acid copper baths – Uyemura, Version 1.0
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 156 Title: Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Sample preparation:…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuracopper, coppersolution, solutionq'intercept, q'interceptmlat, mlatrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmsapproximation, approximationcvs
Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 184 Title: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialelectrolyte, electrolyteokuno, okunocopper, copperleveler, levelertechnique, techniquerde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
|Metrohm|Aplikace
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
VA Application Note No. V - 183 Title: Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunocopper, copperq'intercept, q'interceptmlat, mlatbrightener, brightenerrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution