LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Leveler «Thru-Cup EVF-R» in acid copper baths (Uyemura)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Elektrochemická analýza pomocí cyklického voltametrického stripování (CVS) je zásadní pro kontrolu přísad v měděných galvanizačních koupelích. Přesné stanovení hladin doplňků zajišťuje kvalitu povlaků a stabilitu výrobního procesu.

Cíle a přehled studie


Cílem bylo vyvinout a ověřit metodu pro kvantitativní stanovení leveleru Thru-Cup EVF-R v kyselých měděných elektrolytech. Studie využívá techniku kalibrace křivkou odezvy (RC) v kombinaci s CVS na rotačním drženém elektrodě (RDE).

Použitá metodika a instrumentace


Analýza probíhala bez předúpravy vzorku přímo z průmyslové koupelové směsi. Použité přístroje:
  • Pracovní elektroda: Pt-RDE se špičkou pro CVS
  • Auxilární elektroda: platina
  • Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L) s mezielektrolytem KNO3
  • Rotační rychlost: 2600 rpm
  • Potenciostatický režim: CVS, rozsah 1,625 V → –0,175 V → 1,625 V, krok 6 mV, rychlost 0,1 V/s

Hlavní výsledky a diskuse


Podmínky CVS umožnily identifikovat oxidační špičku mědi kolem 0,2 V. Kalibrační křivka odezvy vykázala lineární závislost signálu na koncentraci leveleru v sledovaném rozsahu. Metoda prokázala dostatečnou citlivost a reprodukovatelnost pro průmyslovou praxi.

Přínosy a praktické využití metody

  • Rychlá a přímá analýza bez složité přípravy vzorku
  • Možnost častého monitorování úrovně doplňků v koupeli
  • Zvýšení kvality povlaků a snížení odchylek v procesu

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se integrace CVS senzorů do online monitorovacích systémů galvanických linek. Metodu lze dále rozšířit o simultánní stanovení dalších přísad a využít v automatizované kvalitě nadzoru.

Závěr


Popsaná metoda založená na CVS s RDE a kalibrací křivkou odezvy poskytuje spolehlivý nástroj pro kvantifikaci leveleru Thru-Cup EVF-R v kyselých měděných elektrolytech. Je vhodná pro pravidelnou kontrolu provozních koupelí.

Reference


VA Application Note No. V-157 Thru-Cup EVF-R in acid copper baths – Uyemura, Version 1.0

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 156 Title: Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Sample preparation:…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuracopper, coppersolution, solutionq'intercept, q'interceptmlat, mlatrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmsapproximation, approximationcvs
Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries)
VA Application Note No. V - 184 Title: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve technique (RC) (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of leveler «Top Lucina α-3» in acid copper baths by response curve…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialelectrolyte, electrolyteokuno, okunocopper, copperleveler, levelertechnique, techniquerde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries)
VA Application Note No. V - 183 Title: Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunocopper, copperq'intercept, q'interceptmlat, mlatbrightener, brightenerrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.