LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Kontrola obsahu přísad v elektrolytech mědění je klíčová pro kvalitní nanášení a vlastnosti výsledných povlaků. Jasné stanovení koncentrace brightenerů, jako je Thru-Cup EVF-1A, umožňuje udržet optimální lesk, přilnavost a rovnoměrnost měděného povlaku. Rychlá a citlivá analytická metoda je proto nezbytná pro průmyslovou i laboratorní praxi.

Cíle a přehled studie / článku


Cílem aplikace bylo vyvinout a ověřit elektrochemickou metodu pro stanovení koncentrace brighteneru Thru-Cup EVF-1A v kyselých mědících lázních. Studie kombinuje cyklickou voltammetrii s technikou modified linear approximation (MLAT) pro kalibraci a kvantifikaci přísady přímou analýzou vzorku bez předchozí úpravy.

Použitá metodika a instrumentace


Metoda spočívá v cyklickém voltammetrickém strippingu (CVS) s hydrodynamickým ovládáním otáček rotačního elektrody (RDE). Kalibrace probíhá pomocí MLAT, kdy se sledují změny celkové náboje (Q–Q’) v závislosti na přidané koncentraci brighteneru. Pevné parametry měření:
  • Rozsah potenciálu: start 1,575 V, vertexy –0,25 V a 1,575 V
  • Krok napětí: 0,006 V
  • Rychlost skenu: 0,1 V/s
  • Střídavý proud na Pt-RDE: 2000 ot./min
  • Vrchol měření Cu: 0,25 V ± 0,2 V

Použitá instrumentace


  • Pracovní elektroda (WE): Pt-RDE se vzorkovacím hrotem pro CVS
  • Doplňková elektroda (AE): Pt tyč
  • Referenční elektroda (RE): Ag/AgCl/KCl (3 mol/l)
  • Mezidifúzní elektrolyt: saturovaný roztok KNO3/H2O (3:1)
  • Rotační mechanika a napěťový ovladač pro CVS

Hlavní výsledky a diskuse


Kalibrace pomocí MLAT prokázala lineární závislost Q–Q’ na koncentraci brighteneru v rozsahu 0 až 0,15 ml/l. Nelze zaznamenat významné odchylky, což svědčí o dobré opakovatelnosti a přesnosti metody. Vrchol proudu mědi se stabilně objevuje ve středním oboru potenciálu, což minimalizuje interferenci dalších složek elektrolytu. Metoda umožňuje detekci nízkých koncentrací s dostatečnou citlivostí pro reálné provozní podmínky.

Přínosy a praktické využití metody


Metoda nevyžaduje žádnou předúpravu vzorku, což urychluje analýzu a snižuje riziko kontaminace. CVS v kombinaci s MLAT poskytuje robustní kvantifikaci ve složitých matricích elektrolytů. Tato technika je vhodná pro nepřetržité monitorování výrobních procesů a rychlé rozhodování v laboratořích QA/QC.

Budoucí trendy a možnosti využití


  • Integrace metody do online monitorovacích systémů pro automatickou regulaci přísad.
  • Rozšíření aplikace na jiné typy brightenerů a elektrolytů.
  • Kombinace s vícekanálovými senzory pro simultánní kontrolu několika složek elektrolytu.
  • Miniaturizace zařízení pro terénní měření a rapid screening vzorků.

Závěr


Vyvinutá elektrochemická metoda založená na CVS a MLAT představuje rychlý, citlivý a přímý postup stanovení brighteneru Thru-Cup EVF-1A v kyselých mědících lázních. Díky minimálnímu zásahu do vzorku a vysoké reprodukovatelnosti je vhodná pro průmyslovou praxi i výzkumné laboratoře.

Reference


Uyemura. Brightener Thru-Cup EVF-1A in acid copper baths. Application Note No. V-156, Version 1.0

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 155 Title: Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths by dilution titration (DT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
evf, evfthru, thrucup, cupsuppressor, suppressorvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms
Brightener «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 138 Title: Brightener «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of brightener «Cupraspeed» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupraspeed, cupraspeedbrightener, brightenermlat, mlatcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechq'intercept, q'interceptacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingapproximation
Leveler «Thru-Cup EVF-R» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 157 Title: Leveler «Thru-Cup EVF-R» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of leveler «Thru-Cup EVF-R» in acid copper baths by response curve technique (RC) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Sample preparation: Acid…
Klíčová slova
evf, evfleveler, levelerthru, thrucup, cupvertex, vertexcopper, copperelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialelectrolyte, electrolyteuyemura, uyemuraacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating
Brightener «MACuSpec TM PPR 100 Brightener» in acid copper baths (MacDermid)
VA Application Note No. V - 142 Title: Brightener «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» in acid copper baths (MacDermid) Summary: Determination of brightener «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
mlat, mlatbrightener, brightenervertex, vertexcopper, coppervms, vmselectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialmacdermid, macdermidsolution, solutionq'intercept, q'interceptppr, ppracid, acidrde, rdevoltammetric
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.