LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Poznání koncentrace aditiva Copper GleamTM 2001 v kyselých mědířských lázních je zásadní pro udržení kvality, lesku a konzistentní elektrolytické depozice. Přesné řízení množství brighteneru ovlivňuje rovnoměrnost povlaku a prodlužuje životnost lázně.

Cíle a přehled studie / článku


Cílem aplikace je vyvinout a ukázat jednoduchou a spolehlivou metodu stanovení přísady Copper GleamTM 2001 přímo v provozních podmínkách bez nutnosti předchozí úpravy vzorku. Metoda kombinuje cyklické voltametrické stripping s modifikovanou lineární aproximační technikou (MLAT).

Použitá metodika a instrumentace


Technika CVS s elektrochemickým strippingem na platinovém rotačním diskovém elektrodě (Pt-RDE) při hydrodynamických podmínkách (2000 ot./min). Doprovodné elektrody tvoří platinová pomocná elektroda a referenční Ag/AgCl/KCl (3 mol/l) se středním elektrolytem KNO3 sat. ve vodě (3:1). Elektrolytické prostředí je definováno pracovním roztokem obsahujícím síran měďnatý, kyselinu sírovou a chlorid sodný podle specifikace dodavatele. Kalibrace se provádí dvěma roztoky s různou koncentrací suppressoru Copper GleamTM 2001 Carrier. Parametry měření: počáteční potenciál 1,575 V, vertexy –0,3 V a 1,575 V, krok 6 mV, rychlost skenu 0,15 V/s.

Hlavní výsledky a diskuse


Vytvořená kalibrační závislost interceptu náboje Q–Q′ vůči objemu přísady vykazuje lineární průběh v testovaném rozsahu koncentrací. Elektrodová odezva vrcholového proudu ve 0,2 V ± 0,2 V je konzistentní a umožňuje přesné rozlišení nízkých koncentrací brighteneru. Metoda prokázala vysokou reprodukovatelnost a opakovatelnost měření.

Přínosy a praktické využití metody


Rychlé stanovení bez nutnosti předúpravy vzorku šetří čas i náklady. Vysoká citlivost podporuje online monitoring a kontrolu kvality lázně. Stabilní a reprodukovatelné výsledky usnadňují preventivní údržbu a optimalizaci provozních parametrů.

Budoucí trendy a možnosti využití


Dále je perspektivní automatizovat měření a integrovat CVS stanici přímo do výrobní linky. Metodu lze rozšířit na další typy brightenerů či přísad a využít pokročilé algoritmy pro zpracování dat a prediktivní údržbu.

Závěr


Metoda MLAT v kombinaci s cyklickou voltametrií strippingem představuje spolehlivý, rychlý a citlivý nástroj pro stanovení přísady Copper GleamTM 2001 v kyselých mědířských lázních, čímž přispívá k efektivní kontrole kvality a stabilizaci elektrochemického procesu.

Reference


  • Rohm and Haas Electronic Materials VA Application Note No. V-134 Version 1.0

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Brightener «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 138 Title: Brightener «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of brightener «Cupraspeed» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating bath…
Klíčová slova
cupraspeed, cupraspeedbrightener, brightenermlat, mlatcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechq'intercept, q'interceptacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingapproximation
Brightener «Cupracid BL» in acid copper baths (Atotech)
VA Application Note No. V - 136 Title: Brightener «Cupracid BL» in acid copper baths (Atotech) Summary: Determination of brightener «Cupracid BL» in acid copper baths by linear approximation technique (LAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Acid copper electroplating…
Klíčová slova
brightener, brightenercupracid, cupracidlat, latcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialatotech, atotechq'intercept, q'interceptacid, acidrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingapproximation
Brightener «MACuSpec TM PPR 100 Brightener» in acid copper baths (MacDermid)
VA Application Note No. V - 142 Title: Brightener «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» in acid copper baths (MacDermid) Summary: Determination of brightener «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
mlat, mlatbrightener, brightenervertex, vertexcopper, coppervms, vmselectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialmacdermid, macdermidsolution, solutionq'intercept, q'interceptppr, ppracid, acidrde, rdevoltammetric
Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura)
VA Application Note No. V - 156 Title: Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths (Uyemura) Summary: Determination of brightener «Thru-Cup EVF-1A» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping (CVS). Sample: Sample preparation:…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialuyemura, uyemuracopper, coppersolution, solutionq'intercept, q'interceptmlat, mlatrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmsapproximation, approximationcvs
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.