LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Simultaneous determination of fluoride species plus acid anions in etching baths by ion chromatography with dual detection

Postery |  | MetrohmInstrumentace
Iontová chromatografie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Úprava povrchu křemíkových waferů v leptacích lázních je zásadní pro výrobu vysoce výkonných solárních článků. Přesná kontrola koncentrací HF, HNO3, organických kyselin a hexafluorosilikátu je rozhodující pro optimální odstranění oxidů a regulaci drsnosti povrchu. Integrovaná analýza těchto složek přispívá ke snížení nákladů, minimalizaci odpadu a zvýšení životnosti leptacích médií.

Cíle a přehled studie / článku


Cílem předložené metody je simultánní stanovení volného fluoridu, komplexního fluoridu ve formě SiF62–, kyseliny dusičné, acetátu a síranů v jediné chromatografické injekci. Studie demonstruje využití dvoukanálové detekce: potlačená vodivost pro anionty a UV/VIS pro ortosilikovou kyselinu po postkolonové derivatizaci.

Použitá metodika a instrumentace


Vzorek leptací lázně se injektuje na aniontoměničovou kolonu Metrosep A Supp 15 při 45 °C. Eluent tvoří 3,5 mmol/L Na2CO3 a 3,0 mmol/L NaHCO3 (0,7 mL/min).
  • Detekce aniontů: potlačená vodivost (fluorid, dusičnan, acetát, síran).
  • Post-column derivatizace: kyselina molybdosiliková vzniká reakcí ortosilikátu s molybdenanem za acidických podmínek, detekce UV/VIS při 410 nm.

Instrumentace zahrnuje 858 Professional Sample Processor, 850 Professional IC Anion–MCS, Lambda 1010 UV/VIS detektor, 771 IC Compact Interface a post-column reactor.

Hlavní výsledky a diskuse


Metoda prokázala vysokou shodu s titračním stanovením (RSD < 6 %), přičemž rozdíl mezi celkovým fluorem a komplexním fluorem umožňuje výpočet volné HF. Čtyři komerční vzorky leptacích směsí vykázaly konzistentní hodnoty Si, HF a HNO3 při porovnání IC a titrace.

Přínosy a praktické využití metody


Simultánní analýza zkracuje čas měření a zjednodušuje přípravu vzorků. Metoda umožňuje průběžnou kontrolu kvality leptacích roztoků, optimalizaci spotřeby kyselin a zlepšení reprodukovatelnosti povrchové úpravy v průmyslové výrobě fotovoltaických článků.

Budoucí trendy a možnosti využití


Rozvoj inline a automatizované analýzy leptacích procesů v reálném čase. Integrace s procesními řídicími systémy a rozšíření detekce o další analyty (např. další organické kyseliny či kovové nečistoty). Miniaturizace přístrojové techniky a využití pokročilých post-column reakcí pro širší analytické spektrum.

Závěr


Navržená dvoukanálová IC metoda nabízí spolehlivé a efektivní stanovení klíčových složek leptacích kapalin v jediném běhu. Vysoká přesnost a reprodukovatelnost podporují její využití pro průmyslovou kontrolu kvality a řízení výrobních procesů.

Reference


1. Henssge A., Acker J. Chemical analysis of acidic silicon etch solutions, I. Titrimetric determination of HNO3, HF and H2SiF6. Talanta 73, 220–226 (2007).
2. Acker J., Henssge A. Chemical analysis of acidic silicon etch solutions, II. Determination of HNO3, HF and H2SiF6 by ion chromatography. Talanta 72, 1540–1545 (2007).
3. Zimmer M. et al. Inline analysis and process control in wet chemical texturing processes. In 22nd European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, Milan (2007).

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Analysis of water samples and water constituents with Metrohm instruments
Monograph Analysis of water samples and water constituents with Metrohm instruments Peter A. Bruttel and Nadine Seifert, revised by Dr. Markus Läubli, Uwe Loyall, and Lucia Meier Preface Water is essential for all living organisms – without water no life…
Klíčová slova
remarks, remarksliterature, literaturemetrohm, metrohmelectrode, electrodepotential, potentialmode, modegeneral, generalinstrument, instrumenthardness, hardnesswater, waterprofessional, professionalinstruments, instrumentsexample, exampletitrant, titrantmmol
Semiconductor workflows - Trace contaminant analysis application compendium
Semiconductor workflows Trace contaminant analysis application compendium The role of ion chromatography in the semiconductor industry Demand for semiconductor wafers will continue its vigorous growth as the demand for mobile devices, cloud computing, Internet of Things (IoT), selfdriving automobiles, artificial…
Klíčová slova
chromatography, chromatographydiscrete, discreteion, ioncombustion, combustionanalyzers, analyzerssemiconductor, semiconductorpage, pagenext, nextview, viewborate, borateoverview, overviewliquid, liquidspectrometry, spectrometryked, kedfull
Automated analysis of etch acid mixtures using the 859 Titrotherm and the 814 USB Sample Processor
Application Bulletin 344/1e Automated Analysis of etch acid mixtures with 859 Titrotherm and 814 USB Sample Processor Page 1/7 Automated analysis of etch acid mixtures using the 859 Titrotherm and the 814 USB Sample Processor Of interest to: solar cell…
Klíčová slova
molarity, molaritytitrant, titranttitration, titrationnaoh, naohetch, etchhcl, hclintercept, interceptslope, slopeassignment, assignmenttitrating, titratingcomputed, computednaf, nafformula, formulammol, mmolblank
Determination of Silicate and Inorganic Anions in High Purity Water using Sequential Detection and AutoPrep
Application Update 169 Determination of Silicate and Inorganic Anions in High Purity Water using Sequential Detection and AutoPrep INTRODUCTION Companies that require ultra high purity water for the manufacture of their products (e.g. semiconductor companies) monitor silicate as it is…
Klíčová slova
silicate, silicateautoprep, autoprepanions, anionswater, waterkoh, kohfluoride, fluorideegc, egcbromide, bromidenitrate, nitrateinorganic, inorganicphosphate, phosphatepost, postnitrite, nitriteinject, injectpurity
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
FacebookX (Twitter)LinkedInYouTube
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.