LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Ohmic iR drop

Aplikace | 2025 | MetrohmInstrumentace
Elektrochemie
Zaměření
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Ohmický iR drop představuje nepřesnost v elektrochemických měřeních, která může vést k chybné interpretaci redoxních procesů a nesprávnému výpočtu kinetických parametrů.

Cíle a přehled studie


Tato Application Note (AN-EC-036) je třetím dílem série věnované měření iR drop. Představuje použití elektrochemické impedanční spektroskopie (EIS) jako nejpřesnější metody pro kvantifikaci ohmického odporu.

Použitá metodika a instrumentace


V experimentu byla použita tříelektrodová celek s Pt kotoučovou prací elektrodou (3 mm), Pt protipól, Ag/AgCl referenční elektroda a roztok 0,05 mol/l K4[Fe(CN)6] bez dalšího podpůrného elektrolytu pro umělé navýšení odporu.
EIS byla prováděna v rozsahu 100 kHz až 100 Hz při amplitudě 5 mV na potenciálu 0 V vs OCP.
Ru (uncompensated resistance) byla určena z Nyquistova a Bodeova diagramu, typicky 87 Ω.
Manuální kompenzace v softwaru NOVA a INTELLO umožňuje zadat vypočtenou hodnotu Ru a nastavit kompenzaci 80–90 % pro minimalizaci oscilací.
Automatická kompenzace v INTELLO pomocí příkazu Measure iR Drop provádí jednofrekvenční EIS (výchozí 30 kHz), kontroluje hodnoty v definovaných bezpečnostních mezích a nabízí akceptační okno s přepočtem Rc.

Použitá instrumentace


  • Metrohm Autolab s modulem FRA32M
  • Potenciostat/galvanostat VIONIC ovládaný softwarem INTELLO
  • Software NOVA pro manuální iR kompenzaci

Hlavní výsledky a diskuse


Měření Ru ukázalo hodnotu 87 Ω. Manuální i automatická kompenzace vedla k výraznému snížení iR drop ve voltametrických křivkách.
Kompenzovaný cyklický voltamogram 0,05 mol/l K4[Fe(CN)6] v ultrapure vodě vykazuje špičku separace odpovídající reversibilnímu jednovalikovému přenosu, na rozdíl od nekompenzovaného experimentu.

Přínosy a praktické využití metody


  • EIS poskytuje nejpřesnější určení ohmického odporu v reálných systémech.
  • Software integrované kompenzační nástroje ulehčují nastavení měření a minimalizují chyby.
  • Umožňuje korektní interpretaci elektrochemických dat a validní určení kinetických parametrů.

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se další automatizace kompenzačních protokolů, využití vyšších frekvencí EIS pro rychlé inline monitorování a integrace s pokročilou analýzou dat a strojovým učením pro predikci chování elektrochemických systémů.

Závěr


Elektrochemická impedanční spektroskopie se potvrdila jako doporučená metoda pro přesné určení ohmického iR drop. Kombinace manuální a automatické kompenzace v softwarech NOVA a INTELLO zajišťuje spolehlivá elektrochemická měření s minimalizovanými chybami.

Reference


  • Application Note AN-EC-036
  • Application Note AN-EC-003
  • Application Note AN-EC-004

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Ohmic Drop Part 2 – Measurement
Ohmic Drop Part 2 – Measurement
2019|Metrohm|Technické články
Application Area: Fundamental Ohmic Drop Part 2 – Measurement Keywords 𝑅 = Uncompensated resistance; Ohmic drop determination; Ohmic drop compensation Summary In a previous application note, the concepts of ohmic drop (or uncompensated resistance) and ohmic resistance were explained and…
Klíčová slova
ohmic, ohmicdrop, dropcompensation, compensationresistance, resistanceeis, eisimpedance, impedanceinterrupt, interruptcurrent, currentuncompensated, uncompensatedfeedback, feedbackelectrochemical, electrochemicalexponential, exponentialnova, novaelectrode, electrodepotentiostat
EIS at different states of charge with INTELLO
Application Note AN-BAT-016 EIS at different states of charge with INTELLO Study the internal components of battery at a range of conditions with electrochemical impedance spectroscopy (EIS) A battery's state of charge (SOC) represents the this relationship. By monitoring resistance…
Klíčová slova
eis, eisbattery, batteryimpedance, impedancenyquist, nyquistvionic, vionicelectrochemical, electrochemicalsoc, socbode, bodeelectrochemists, electrochemistscharge, chargeresistance, resistanceaging, agingcircuit, circuitsoh, sohplot
Mott-Schottky Analysis
Mott-Schottky Analysis
2024|Metrohm|Aplikace
Application Note AN-EIS-009 Mott-Schottky Analysis Using EIS for semiconductor applications Semiconductors are intrinsic to modern life, but they from the data and then plotted against the DC offset stand to play an even greater role in the coming itself, producing…
Klíčová slova
vionic, vioniccapacitance, capacitanceschottky, schottkymott, mottelectrochemical, electrochemicalcharge, chargespace, spaceeis, eisbending, bendingfto, ftosemiconducting, semiconductingpowered, poweredregion, regionsemiconductor, semiconductorreciprocal
Determination of the diffusion coefficient of an inserted species in a host electrode with EIS, PITT and GITT techniques
EC-Lab – Application Note #70 06/2021 Last revised 06/2021 Determination of the diffusion coefficient of an inserted species in a host electrode with EIS, PITT and GITT techniques I. With 𝐽〈Li〉 the diffusion flux of 〈Li〉. Introduction The main electrochemical…
Klíčová slova
diffusion, diffusionohmic, ohmicpitt, pittbcs, bcseis, eisinsertion, insertiondummy, dummygitt, gitttokin, tokinsupercap, supercap𝑅d, 𝑅d𝑍𝑓c, 𝑍𝑓cresistance, resistanceimpedance, impedancesupercapacitor
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
FacebookX (Twitter)LinkedInYouTube
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.