LCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Automated CVS Method Development and Optimization of Multicomponent Plating Baths

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Souhrn

Význam tématu


Analýza organických přísad v elektrolytických mědích lázních je klíčová pro kontrolu pokovovacích procesů v mikroelektronice a výrobě desek plošných spojů. Automatizované metody založené na cyklické voltammetrii jsou standardem, ale s rostoucí složitostí aditivních systémů vyvstává potřeba optimalizace vyhodnocovacích protokolů.

Cíle a přehled studie


Práce popisuje postup vývoje a optimalizace analytických metod pro multikomponentní mědicí lázně s využitím plně automatizovaného systému Metrohm 894 Professional CVS a softwaru viva. Byly testovány dva rozdílné typy elektrolytů, aby se demonstrovaly výzvy při analýze tří hlavních organických složek: potlačovačů, zjasňovadel a vyrovnávačů.

Použitá metodika a instrumentace


Běžně používané techniky:
  • CVS (Cyclic Voltammetric Stripping) a CPVS (Cyclic Pulse Voltammetric Stripping) pro měření náboje Q při odstraňování mědi z RDE.
  • Dilution Titration pro stanovení potlačovače.
  • Modified Linear Approximation Technique (MLAT) pro analýzu zjasňovadla.
  • Response Curve Technique (RC) pro měření úrovně vyrovnávače.
Instrumentace:
  • Metrohm 894 Professional CVS.
  • Dávkovací moduly Dosino pro precizní přidávání standardů a vzorků.
  • Čerpací stanice 843 Pump Station pro automatické čištění měřící buňky.
  • Volitelný vzorkovač 858 Professional Sample Processor pro vyšší průtok.
Software viva umožňuje definici metodových šablon, variabilních parametrů (rotační rychlost, první vertex potenciál, doby správy), automatizaci sérií stanovení a následné vyhodnocení.

Hlavní výsledky a diskuse


Optimalizace potlačovače: rozdíly v kalibračních křivkách dvou lázní a volba vhodného hodnotícího bodu podle náběhu titrace.
Analýza zjasňovadel: určení lineárního rozsahu Q vs. koncentrace pro CVS a CPVS, kde CPVS umožnilo rozšířený lineární interval.
Stanovení vyrovnávače: vliv sweep parametrů na sklon kalibrační křivky, rozdíly citlivosti mezi chemickými typy lázní.
Automatizované série experimentů s variabilními parametry významně urychlily sběr dat a umožnily robustní definici metod.

Přínosy a praktické využití metody


Automatizovaná CVS protokoly snižují časovou i personální náročnost vývoje analýz, zvyšují reprodukovatelnost a spolehlivost měření. Metody lze integrovat do QA/QC procesů v průmyslové analýze elektrolytů a pikoprocesů.

Budoucí trendy a možnosti využití


Integrace s datovými systémy LIMS, využití strojového učení pro prediktivní optimalizaci parametrů, vysokoprůchodové screeningové stanovení, miniaturizace měřicích buněk, multivariační vyhodnocení dat.

Závěr


Systém Metrohm 894 Professional CVS se softwarem viva představuje robustní řešení pro komplexní analýzu vícesložkových mědích lázní. Automatizace a flexibilita metod usnadňují vývoj i validaci protokolů pro potlačovače, zjasňovadla a vyrovnávače.

Reference


Michael Kubicsko, Ritesh Vyas: Automated CVS Method Development and Optimization of Multicomponent Plating Baths, Metrohm White Paper WP-051EN, Metrohm International Headquarters, Herisau, Switzerland, September 3, 2019

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Temperature dependence of CVS determinations
Temperature dependence of CVS determinations Summary One of the most important process steps in the manufacturing of printed circuit boards is galvanic copper plating of the drill holes and the board surface. By the use of organic additives (suppressor and…
Klíčová slova
brightener, brightenersuppressor, suppressortemperature, temperaturecvs, cvscopper, copperadditives, additivesmeasuring, measuringintercept, interceptplating, platingsolution, solutiondependence, dependencetemperatures, temperaturesconcentration, concentrationadditive, additivevoltammetric
Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries)
VA Application Note No. V - 183 Title: Brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths (Okuno Chemical Industries) Summary: Determination of brightener «Top Lucina α-2» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT) using cyclic voltammetric stripping…
Klíčová slova
vertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathscvs, cvspotential, potentialokuno, okunocopper, copperq'intercept, q'interceptmlat, mlatbrightener, brightenerrde, rdeworking, workingelectroplating, electroplatingvms, vmssolution
894 Professional CVS
894 Professional CVS
2020|Metrohm|Brožury a specifikace
894 Professional CVS Cyclic Voltammetric Stripping for the determination of additives in electroplating baths 894 Professional CVS and viva – CVS flexible, convenient and secure! 02 The 894 Professional CVS together with viva software is the most powerful CVS system…
Klíčová slova
viva, vivacvs, cvsmeasuring, measuringbrightener, brightenercurrent, currentsecurity, securitydetermination, determinationconvenient, convenientcan, canapproximation, approximationpro­, pro­leveler, levelermlat, mlatreport, reportautomatic
Brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)
VA Application Note No. V - 134 Title: Brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials) Summary: Determination of brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in acid copper baths by modified linear approximation technique (MLAT)…
Klíčová slova
mlat, mlatcopper, coppervertex, vertexelectrode, electrodebaths, bathspotential, potentialrohm, rohmq'intercept, q'interceptbrightener, brighteneracid, acidrde, rdevoltammetric, voltammetricworking, workingelectroplating, electroplatingapproximation
Další projekty
GCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.